这几种膜料都无吸收性，几乎每一个TiO2蒸着遵循一个原则：在可使用的光谱区内取得可以忽略的 吸收性，这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TiO2需要使用IAD助镀，氧气输入口在挡板下面.

Ti3O5比其它类型的氧化物贵一些，可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些，PULKER等人指出，折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的，基板温度高则得到高的折射率.例如，基板板温度为400℃时在550纳米波长得到的折射率为2.63 次数用完API KEY 超过次数限制

氟化钍

名称：氟化钍（ThF4）

260-12000nm以上的光谱区域，是一种低折射率材料，在可视光谱区N从 1.52降到1.38（1000nm区域）在短波长趋近于1.6，蒸发温度比MGF2低一些，通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收，这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性，在8000到12000NM完全没有材料可以替代. 次数用完API KEY 超过次数限制

另外有胶补法，把破洞四周洗干净，用毛刷蘸胶水涂抹，过3-5分钟后，取一块质地相同的薄膜贴在上面，胶水干后即可粘牢。热补法和胶补法补膜效果好，缝补法不但漏气，而且容易拉开，对质地不是较厚的薄膜好不用。

不用时挖坑埋藏薄膜在收藏期间，要严烟熏、火烤，否则，其使用寿命会大大缩短。棚膜好的储存方法是挖坑埋藏，生产结束后，拆下的薄膜要先洗干净晾干，卷好后用旧薄膜包裹起来，选择土壤干湿度适中的地方挖一个坑，然后把包裹好的薄膜放进坑内埋藏。注意，薄膜上层离地面的距离在　30厘米以上。此法可避免农膜在空气中存放老化发脆，而缩短使用寿命。 次数用完API KEY 超过次数限制